晶片生產製造需要光刻機，尤其是先進位程的晶片，像7nm及以下製程的晶片，更是離不開先進的EUV光刻機。
據悉，台積電最先量產7nm晶片，但採用的是DUV光刻機，EUV光刻機上市後，台積電就推出了7nm EUV工藝，全面採用EUV光刻機生產製造7nm晶片。
這是因為用DUV光刻機生產製造7nm晶片成本高、工藝復雜，而使用EUV光刻機就簡單很多，所以EUV光刻機上市後，各大晶片企業都爭相購買。
但從2019年開始，EUV光刻機就不能自由出貨，國內廠商全額訂購的EUV光刻機，目前仍沒有實現交付。
2021年年底，ASML還明確表示DUV光刻機可以自由出貨，但EUV光刻機暫時還無法實現。
ASML、台積電傳來消息，事關EUV光刻機、5nm、2nm晶片！行情變了
但沒有想到的是，ASML就EUV光刻機出貨表態一段時間後，EUV光刻機就傳來了消息。
據悉，ASML方面給出了預期，預計到2025年，全球在用光刻機設備中，EUV光刻機的占比將會高達60%。
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就這意味著EUV光刻機將會在未來3年內大量出貨、安裝，甚至是實現自由出貨，否則可能就無法實現60%的占比。
在ASML傳來的EUV光刻機的消息後，台積電也傳來5nm、2nm晶片的消息。
根據台積電發布的消息可知，使用DUV光刻機也是可以量產5nm製程的晶片，只不過成本較高、工藝更為復雜一些，需要更多層的曝光。
台積電利用DUV光刻機量產7nm晶片，因為成本等問題，其放棄用DUV光刻機量產5nm晶片，而是直接選擇了EUV光刻機。
其實，在台積電透露這個消息之前，鎧俠、佳能等廠商就聯合推出NIL工藝，在不使用EUV光刻機的情況下，也能夠生產5nm晶片，預計在2025年實現。
也就是說，在沒有EUV光刻機的情況下，量產5nm晶片並不是不可能。
另外，台積電還正式對外表示，3nm晶片將如期量產，而2nm晶片進展順利，同時，投資2300億元在台灣省中科園區內建設2nm晶片工廠。
可以說，ASML、台積電傳來的這些消息，則意味行情變了。
首先，EUV光刻機將會在未來3年內基本實現普及，這意味著EUV光刻機也不再是最先進的設備，會有更先進的光刻機出現，而現有的EUV光刻機很快就會自由出貨。
其次，EUV光刻機原本是生產製造5nm晶片的必要設備，沒有EUV光刻機，就無法生產製造5nm晶片。
如今，在沒有EUV光刻機的情況下，也是能夠量產5nm晶片，因為廠商可以採用NIL工藝，關鍵是其成本還低，能夠節約大量用電能耗和40%的設備投資成本。
另外，在DUV光刻機下，只需要採用多重曝光技術，並花費更多時間和成本，也是能夠量產5nm晶片，還能夠將良品率控制在一個較好的范圍內。
最後，晶片開始進入全新的製程節點。
7nm、5nm晶片已經很先進了，但台積電將會在2022年第四季度正式推出3nm晶片，其是全新的節點，功耗和性能都會有明顯的提升。
最主要的是，台積電將在 2nm 的節點推出 Nanosheet / Nanowire 的電晶體架構並採用新的材料，其將會在2022年3月份正式推出。
也正是因為2nm晶片發展順利，台積電積極籌建2nm晶片工廠，也就是說，晶片製程進入了全新的時代，3nm、2nm等晶片，與5nm等晶片相比，其是全新的技術。
所以，在ASML、台積電傳來關於EUV光刻機、5nm、2nm晶片的消息後，才說行情變了，EUV光刻機將會很快普及，晶片製程也將進入全新的時代。
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