在光刻機領域內，技術最先進的廠商是ASML，其研發製造的光刻機，占領了中高端市場，可以說，凡是生產製造28m以下晶片，幾乎都用ASML的光刻機。
據悉，ASML目前最先進的光刻機是EUV光刻機，但其產能有限，至今還積壓大量訂單，三星想要更多EUV光刻機，ASML也只能在韓國建設EUV光刻機再製造工廠。
簡單說就是，ASML讓三星使用翻新的EUV光刻機，而ASML已生產的EUV光刻機，七成都給了台積電，這也是台積電先進位程晶片良品率高、產能大的原因之一。
雖然EUV光刻機已經很先進，能夠用於生產製造7nm、5nm，甚至是3nm製程的晶片，但ASML仍在研發更先進的光刻機。
據悉，ASML研發新一代EUV光刻機主要是用於生產製造3nm、2nm,甚至是1nm製程的晶片，該光刻機預計在2023年投入使用。
但沒有想到的是，近日，ASML新消息正式傳來，情況是這樣的。
根據ASML方面的消息可知，ASML已經開始正式生產製造全新一代EUV光刻機，也就是NA EUV光刻機，其採用更先進的光刻技術。
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相比現有EUV光刻機的NA值而言，NA EUV光刻機的NA值更高，能夠進行更高精度的光刻。
當然，NA EUV光刻機更為先進，但體積也明顯增加，大小將會像一輛公共汽車，售價也將超過1.5億美元。
最主要的是，新一代EUV光刻機已經正式開始生產製造，其在2023年下線商用基本上問題不大，將會如期應用在3nm、2nm晶片生產線中。
ASML的新一代EUV光刻機開始生產製造，於是，就有外媒表示，EUV光刻機有望，意思就是自由出貨。外媒還給出了三點理由。
首先，ASML一直都在爭取EUV光刻機等自由出貨，進入2021年後，其已經多次向美發出警告，倘若不能自由出貨，必然會加速中國廠商自主研發光刻機等技術。
一旦中國廠商有了先進的光刻機，ASML想在中國市場生存下去，將會很困難，甚至可能會完全退出中國市場。
ASML如此表態，並非誇大其詞或者危言聳聽，因為上海微電子已經占領國內八成的光刻機市場，由此可見，ASML在國內的市場份額本身就不高。
其次，美態度也正在發生變化。
今年早些時候，ASML等企業獲得許可，允許向中芯國際等出售DUV光刻機等技術，而中芯國際也與ASML簽訂了11億美元的光刻機采購協議等。
另外，美還突然允許高通向出貨4G晶片等產品，搭載高通晶片的部分華為產品正在陸續上市，消息稱，高通還有望向華為出貨5G晶片。
最主要的是，美最近還批准了一項新出售方案，允許一筆價值2億美元的汽車晶片以及驅動晶片等向華為出貨。
從這幾點來看，美正在發生變化，其允許ASML自由出貨EUV光刻機並非不現實。
最後，ASML目前能夠向國內出貨DUV光刻機等產品，而最先進的EUV光刻機則無法自由出貨，這也是美一貫做法，不允許最先進的光刻機技術出售給國內廠商。
但EUV光刻機即將不再是最先進的技術，畢竟，ASML已經開始生產製造全新一代EUV光刻機，其將是ASML最先進的光刻機。
在這樣的情況下，ASML的EUV光刻機獲得自由出貨，也不是不可能的，更何況，ASML自身也在想辦法，向中國廠商提供其能夠提供的一切技術。
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