在光刻機領域內，ASML的技術最先進的，因為目前僅有ASML能夠研發製造EUV光刻機，而該光刻機又是生產製造7nm以下晶片的必要設備。
據悉，ASML早在2018年就正式官宣了EUV光刻機，並於次年開始交付出貨，台積電等廠商隨即就推出了EUV工藝的7nm晶片。
數據顯示，目前ASML的EUV光刻機出貨量已超過142台，其中，2020年實現了超100台的里程碑，2021年全年出貨42台EUV光刻機。
盡管EUV光刻機的總出貨量超過了142台，但ASML仍不是很高興，原因是ASML的EUV光刻機仍不能自由出貨，甚至都不能出貨到外企中國分廠。
另外，台積電明確表示，用DUV光刻機也能夠量產5nm製程的晶片。
而佳能、鎧俠等聯合推出了NIL工藝，在不用EUV光刻機的情況，也能量產5nm晶片，預計2025年實現。
最主要的是，NIL功能大大降低晶片生產成本，尤其是設備采購成本(主要指EUV光刻機)和電耗成本，並且明確表示將會在全球范圍內推廣該工藝。
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也就是因為這些事情讓ASML不高興，再加上，EUV光刻機遲遲不能自由出貨，這也讓ASML已經有點等不及了。
要知道，ASML已經明確表示，將會加大在中國市場的布局，並在中國內地建設維修中心，並進一步擴大研發中心的規模。
不僅如此，ASML還明確表示，加大EUV光刻機的產能，計劃在今明兩年共計出貨115台EUV光刻機，這樣的產能相比2021年而言，提升都是20%以上。
最主要的是，ASML已經開始交付升級版的EUV光刻機，其具備更高的光刻精度，每小時曝光晶圓在200片以上，並計劃在2025年實現全球EUV光刻機安裝使用超60%。
這些都是ASML等不及的證據，當然，ASML加速提升產能和技術疊代，實際上都是為了實現自由出貨，緩解自身的壓力。
首先，加大EUV光刻機，就能夠加速實現EUV光刻機自由出貨。
EUV光刻機不能自由出貨，一方面就是因為產能低，導致EUV供不應求，也導致EUV工藝沒有普及，被視為先進工藝。
一旦EUV光刻機大量上市，實現EUV工藝廣泛應用，屆時，EUV光刻機自由出貨自然就是水到渠成，畢竟，EUV光刻機那時候就不再是先進的工藝。
而且，EUV光刻機大量普及應用，走在NIL工藝前面，即便是佳能、鎧俠等有心推廣NIL工藝，但市場基本上也將被ASML占領了。
其次，加大技術升級，實現EUV光刻機疊代，也是為了自由出貨。
EUV光刻機出現後，其就不能自由出貨，因為這是目前最新先進的光刻機設備，相比之下，DUV光刻機卻能夠實現自由出貨，中芯國際還一次性簽訂了11億美元的采購協議。
這意味著新一代光刻機出現，上一代光刻機基本上就能夠實現自由出貨。
所以，ASML加速技術疊代，推出了升級版的EUV光刻機，並在2025年推出High-NA EUV光刻機。
其目的就是加速實現現有型號的EUV光刻機自由出貨，畢竟，升級版的EUV光刻機的NA值為0.55,而High-NA EUV光刻機的NA值會更高。
但現有EUV光刻機的NA值僅為0.33元，而更高的NA值意味著更高的生產效率和生產精度，其大量上市後，現有EUV光刻機出貨相對就容易多了。
最後，來自國產設備的壓力。
數據顯示，國產光刻機占領了國內八成以上的市場，新一代國產光刻機上市出貨後，ASML的DUV光刻機在國內或就沒有了市場。
這意味著ASML想保證在國內市場獲得源源不斷的營收，其必須要加速EUV光刻機實現自由出貨，畢竟，新一代國產光刻機很快就會到來。
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