國內EUV光刻機，正在「突圍」，如何保持「突圍」之勢？

先來看光源。光刻機是通過光進行晶片加工，用類似照相機的原理，將晶片線路圖復印在塗抹光刻膠的矽片上。最先進的光源是波長為13.5nm的極紫外光，也就是大家常說的EUV。

想要掌握EUV極紫外光源可不容易，但是並不意味著沒有機會。

清華大學完成了一項新型粒子加速器光源SSMB的驗證，這項研究成果有望基於SSMB解決EUV光源的難題。光源的問題如果能得到解決，其餘的核心技術難題就有跡可循了。

再看光刻膠材料。光刻膠和光源幾乎是對標的，分為i線、G線、KrF、ArF、EUV。生產EUV光刻機必須要用上EUV光刻膠。只是這類頂級的半導體材料主要掌握在日本JSR，東京應化這些巨頭手中。

不過好在國產廠商已經在EUV光刻膠材料上進行突圍了。由上海新陽展開行動，據該公司表示，開始進行EUV光刻膠的前期探索性基礎研發。

上海新陽是國內知名的光刻膠廠商，隨著對EUV光刻膠的探索性工程展開，相信在未來會取得顯著的進步。一旦成功破冰，將為國產EUV光刻機產業鏈提供材料領域的支持。

另外就是EUV技術研發的人才專項招聘。根據中科院上海光機所發布的2022博士後招聘消息顯示，有許多工作崗位和內容都和EUV有關。比如原子分子物理這項工作崗位涉及的工作內容為光刻機EUV光源產生理論與實驗研究。

專業的事還是需要專業的人去做，EUV光刻機距離普通人有些遙遠，但卻是中科院重點的科研目標之一。

「突圍」之勢如何保持？

就有外媒表示中國EUV光刻機正在突圍，攔不住了。正如外媒所言，中國EUV光刻機已經從各個節點進行布局，光源、光刻膠、人才或許只是冰山一角。這種「突圍」之勢如何保持呢？

EUV光刻機這種頂級的設備製造，是需要放在產業鏈中去解決的。以國內豐富的半導體供應鏈體系來看，想要保持突圍的趨勢，就需要進行更深厚的技術、人才、產業積累。

把EUV光刻機這樣的整體設備技術，分散成大大小小的研發目標。各大國產廠商在擅長的領域內加強探索。比如華卓精科有能力在雙工件台進行布局，可以進一步擴大技術體系，為產業積累更豐富的技術儲備。

除此之外，人才也是突圍的必要條件。國內晶片行業有20萬的人才缺口，未來對優秀的晶片人才會有更大的需求。尤其是在硬核晶片製造領域，更是需要大量的人才就位到崗。

值得一提的是，國內高校已經開始重視晶片人才的培養了，相繼成立集成電路學院。中微半導體，中芯國際等國產半導體巨頭展開校企合作，與國內頂尖高校共同培養晶片技術人才，為產業提供更大的人才力量。

從技術、人才、產業入手，一步一個腳印實現厚積薄發。正所謂不積跬步，無以至千里。要想取得成功，就得靠不斷的努力。

EUV光刻機是一個長遠的目標，就像十幾年前布局盾構機，手撕鋼等關鍵技術一樣，剛開始以為難以成功的技術，最終還是突破了。不僅打破國外技術壟斷，而且還實現全球領先。

總結

中國EUV光刻機正在突圍，分別在光源、光刻膠、人才這幾大方面進行布局。相信這只是開始，未來還會有更多的進展。同時也希望能有越來越多的國產廠商參與其中，共同推進國產光刻機的進步。