晶片製造一直遵循傳統的生產方式，採用光刻機造出一顆顆精密的晶片。唯一的區別就是光刻機波長和製程的變化。從第一代g-line光源開始，到目前最先進的EUV設備，波長已經壓縮到13.5nm。
不管如何變化，使用光刻機造晶片已經是司空見慣了。但日本企業似乎研製出新的技術，或要採用該技術實現逆襲。這是什麼技術呢？能否量產5nm晶片？
晶片製造新技術
世界各國都開始加快晶片製造產業的步伐，從微米到納米，從90納米到現在的5納米製程時代。而且晶片製造商還在突破，晶片巨頭聯發科已經發布了4nm天璣9000晶片，未來恐怕還將取得更大的突破。
這一切的突破其實都離不開光刻機，只有通過光刻機的曝光，才能將設計好的晶片電路圖刻制在晶圓上，從而分割成一塊塊晶片。
因此光刻機成為了晶片製造不可或缺的設備，但光刻機的劣勢也很明顯。設備過於笨重，一台EUV光刻機重達180噸，由10萬個零部件組成，生產難度非常高。還有耗電量也是十分驚人的，一台EUV光刻機一天就能耗電3萬度。
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未來發展的是清潔能源，很明顯，EUV光刻機雖然十分先進，但並不環保。最重要的是，摩爾定律已經接近極限，如果EUV光刻機無法突破更先進的技術，晶片製造產業該如何發展？
在這樣的情況下，日本企業出手了，又一晶片製造新技術誕生，怎麼回事呢？
據日媒介紹，日本要用「納米壓印」技術實現逆襲，鎧俠、佳能、大日本印刷最早會在2025年將這一技術實現實用化。
這項技術也就是納米壓印，從字面意思來看，是通過納米級別的技術，對相關晶片線路圖以壓印的方式實現晶片線路圖曝光。原理就好比用一枚印章在紙張上印字。
原理看似簡單，但實現起來估計也不是那麼容易的。
大致情況是先准備壓印設備，然後通過紫外線照射的方式，把掩膜上的晶片線路壓印至光刻膠。經過光刻膠的塗抹和襯底作用，最終將完整的晶片線路圖弄到矽基晶圓中，再把晶圓切割成晶片。整個的納米壓印技術基本上就是如此。
說起來簡單，但做起來卻不是一時半會能夠完成的。日企提出了這項技術，並計劃在2025年實現，很大程度說明日本半導體打算重振晶片製造產業鏈。
日媒還提到，世界各國半導體廠商也在關注納米壓印，但由於日企掌握相關設備和原材料，因此暫時走在前頭，一旦實現實用化，也是世界首次。
理論上而言，納米壓印技術確實有望實現晶片製造，如果到時候相關設備生產成功，取代光刻機也未必不可能。
納米壓印技術的優勢
晶片製造發展了幾十年，人類從研發出微電子處理器以來，也有半個世紀的歷史了。自從日本佳能，尼康以及ASML掌握光刻機製造技術後，全球半導體行業就沒有使用光刻機以外的設備曝光晶片。在晶片的曝光環節，必須用上光刻機，這已經成為行業的共識。
然而日本提出了納米壓印技術，或許提供了新的方向。雖然不知道最終能否成功，但如果不去嘗試，永遠都不知道。
科技之所以能夠發展，就是在不斷探索中前行。行業共識可以打破，晶片既然是人造的，又有誰規定必須使用一種技術造晶片。因此納米壓印的誕生將創造無限可能，其帶來的優勢也很明顯。
第一：納米壓印可以降低成本和節省能源消耗。
傳統的光刻機由於其生產步驟封鎖，工序繁多，操作起來也十分不易。一台EUV光刻機價值高達1.2億美元，且對電力，水資源和工廠占地面積都有很大的要求。但納米壓印可以更好的降低成本，降幅大約可達40%，耗電量降低90%。
第二：晶片生產效率提高，可推進半導體產業鏈的進一步發展。
納米壓印技術設備可以更好的實現大規模量產，待技術成熟之後，年出貨量肯定比EUV光刻機高。這可以大大提升晶片生產效率，並推進半導體產業鏈的進一步發展。相關的供應商能獲得更多的產業機會。
由此可見，日企的納米壓印技術確實存在一定的行業市場空間。支持15nm製程的晶片壓印，未來還會進行更高的工藝推進。
這讓人產生一個問題，如果要達到EUV光刻機的層次，就得生產出相應製程的晶片。那麼納米壓印技術能否支持5nm晶片量產呢？
在相同原理的情況下，充分運行更細微的納米壓印技術，或許也能在高端晶片中取得一定的突破。當然，這只是理論上的驗證，實際情況如何，能不能量產5nm，有怎樣的產業未來等等一系列的問題，都需要時間觀察。
總結
晶片發展到5nm，4nm甚至是3nm，再往下發展，晶片製造產業還會有無限的未來和可能性嗎？誰也不知道答案。但如果換一條路出發，用全新的晶片製造方式開辟未來，也許值得一試。
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