ASML正式發布了2021年財報數據，除了靚麗的營收和淨利潤數據外，ASML還官宣了新款EUV光刻機。
據悉，ASML一次性推出了兩款新型EUV光刻機，其NA值均是0.55，相比現有型號的EUV光刻機，其NA明顯提升，畢竟，老款EUV光刻機的NA值為0.33。
另外，新款EUV光刻機採用擁有更高的NA值，就意味著其擁有更高的曝光精度，能夠進行更小晶圓的生產製造，關鍵是效率也大幅度提升，每小時曝光晶圓200片以上。
而現有型號的EUV光刻機，其每小時的晶圓曝光量為160片左右。
最主要的是，其中一款新型號的EUV光刻機已經交付給了英特爾，而另外一款也有5套訂單了。
也就是說，ASML已經具備了出貨更先進EUV光刻機的能力。
事關EUV光刻機自由出貨時間，外媒給出最新預測
ASML官宣新款EUV光刻機後，外媒就給出EUV光刻機自由時間的最新預測，2年內現有EUV光刻機可自由出貨。外媒如此肯定，也給出了以下幾點原因。
首先，EUV光刻機是在2018年開始出現，並在2019年開始大量交付，而台積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
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EUV光刻機出貨後，ASML方面就表示，DUV光刻機在一般情況下是可以自由出貨的，除了在美生產製造的DUV光刻機。
2021年ASML就實現了DUV光刻機等設備自由出貨，並直接與ASML簽訂了價值11億美元的采購協議。
也就是說，新一代光刻機出現後，老款光刻機很快就實現了自由出貨，DUV光刻機就是例子。如今，新款EUV光刻機已經交付，老款也會在2年內自由出貨。
其次，ASML正在加速EUV光刻機普及。
EUV光刻機是生產製造7nm以下晶片的必要設備，再加上，越來越多的儲存晶片廠商也開始用EUV工藝。
於是，ASML明確表示要在2025年實現EUV光刻機使用達到60%。
要知道，目前EUV光刻機的出貨量不高，2021年僅為42台，占ASML全年光刻機出貨量的1/7。
另外，全球還有三家企業可以生產製造光刻機，這意味著ASML要在2025年實現了EUV光刻機的安裝使用率高達60%，其必然要實現自由出貨。
數據顯示，全球EUV光刻機的安裝量應該在140台，這樣的基數實在太少了，要想實現60%的使用率，自由出貨和提升產能是必不可少的。
再加上，中國市場是巨大的，三星、SK海力士都在此有大量的工廠，這些工廠也是需要EUV光刻機。
但由於規則被修改，EUV光刻機不能出貨安裝到外企中國分廠，這意味著ASML只有實現EUV光刻機自由出貨，才能夠解決問題。
最後，壓力讓ASML不得不快速實現EUV光刻機自由出貨。
EUV光刻機原先是生產製造7nm以下晶片的必要設備，但如今可不再是唯一設備了。
因為佳能、鎧俠科技等聯合研發了全新的NIL工藝，目前已經用該工藝量產了15nm的晶片，預計在2025年用NIL工藝量產5nm晶片。
另外，NIL不僅能夠降低耗電量，也能夠降低設備采購成本，關鍵是，佳能、鎧俠等有意在全球范圍內推廣該工藝。
還有就是，台積電也明確表示，DUV光刻機可以量產7nm晶片，也可以量產5nm晶片，只不過工藝更復雜一些，成本也高一點。
這兩個消息讓ASML壓力很大，尤其全新的NIL工藝，一旦在全球范圍內推廣，屆時EUV光刻機的市場必然會縮小。
因為NIL工藝相比EUV工藝不僅能節約的電耗成本，還有EUV光刻機成本，這兩點就能夠大大降低5nm等晶片的生產製造成本。
為了市場，ASML自然要在NIL工藝之前實現EUV光刻機普及，否則，影響就大了。所以才說事關EUV光刻機自由出貨時間，外媒給出最新預測。
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