眾所周知，晶片是目前科技行業發展的根本，不管是手機、汽車還是電腦、游戲領域，都需要晶片的參與。但我國在晶片行業的發展又處於落後的狀態，所以在這種情況下，晶片發展難題給我國造成了不小的影像和阻礙，華為就是一個例子。
晶片製造重中之重，但我國發展略顯緩慢
雖然華為會設計晶片，但歸根結底，華為遭遇難題最大的根源在於晶片製造。目前行業當中，晶片製造主要靠兩家企業，一個是台積電，另一個是三星。我國在這方面雖然也有一定技術，但和台積電之間的實力相差不少。最重要的是，目前台積電、三星都在5nm、4nm等技術上有所發展，而我國還停留在14nm，7nm製造都成了一個難題。
造成這種情況最主要的原因就是因為我國無法進口EUV光刻機。因為傳統的DUV光刻機無法製造7nm及以上的晶片產品，想要打造先進工藝，只能選擇EUV光刻機。但因為各種因素的限制，卻導致遲遲買不到相關設備，這就直接導致我國晶片製造進度緩慢。
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意料之外，EUV光刻機又被針對
而近日，關於光刻機的新規又一次出爐，這次新規的出現讓讓不少人都有些措手不及，甚至台積電、三星等企業都沒有料到。根據新規表示，未來ASML所生產的EUV光刻機設備，不僅出貨需要通過許可，甚至還不能進入外企在中國的分廠。這也就是說國外晶片企業在國內的分廠，也無法買到先進的EUV光刻機設備。
要知道，台積電、三星、SK等全球性質的晶片企業巨頭在國內都有大量的分廠，甚至SK的大部分產能都是在國內完成的，而這一規則的出現無疑直接影響到了這些企業的製造進度和發展狀態。所以說不管是台積電還是三星，面對這次新規都未能倖免。
這一規則的出現不管是對企業發展還是對我國的企業發展情況都是一個壞處。首先對於企業而言，無法將先進設備購入到國內分廠，就意味著這些分廠在訂單製造方面只能選擇落後的成熟技術。而這也會導致部分企業會選擇性地離開國內建廠，這就會導致建廠成本提升，風險加大。
其次，一旦企業離開國內市場到其他地方發展，這就直接減緩了當地的發展速度，對於當地經濟來說也是一種損失。
自研光刻機迫在眉睫
不難看出，這次新規針對的其實還是EUV光刻機以及我國的晶片發展速度。但越是在這種情況下，光刻機的研發就越是迫在眉睫。雖然我們可能做不到全部零件都實現自主研發生產，但只要實現關鍵零部件去美化，純國產光刻機的製造和生產或許並不是天方夜譚。要知道，目前上海微電子已經在28nm光刻機的生產上有所成績，一些關鍵性技術方面也有突破，只要保證這種狀態，光刻機難題遲早會實現突破。
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